Kegunaan Utama

　　Monomer bahan polimer fungsional:

　　Polip-hidroksistirena (PHS) adalah bahan baku kunci untuk fotoresist, terutama dalam pembuatan semikonduktor. Setelah dimodifikasi secara kimia, PHS dapat berfungsi sebagai substrat fotoresist ultraviolet, yang memiliki resolusi tinggi dan ketahanan terhadap etsa.

　　Digunakan untuk membuat resin penukar ion, resin adsorpsi (memanfaatkan adsorpsi polar molekul polar oleh gugus hidroksil fenol).

　　Perantara sintesis organik:

　　Digunakan untuk mensintesis perantara farmasi dan pestisida (seperti prekursor agen antibakteri dan obat antiinflamasi).

　　Melalui reaksi esterifikasi atau alkilasi, dihasilkan monomer fungsional yang digunakan untuk membuat cat dan perekat (meningkatkan daya rekat pada substrat polar).

　　Aplikasi lain:

　　Sebagai agen pengikat silang untuk modifikasi polimer, melalui reaksi antara gugus hidroksil fenol dengan isosianat, resin epoksi, dan sebagainya, untuk meningkatkan sifat mekanik dan ketahanan kimia bahan.

　　Digunakan untuk membuat sonda fluoresensi dan sensor (memanfaatkan kemampuan gugus hidroksil fenol dalam mengenali ion logam)