Asosiy qo'llash sohalari va tipik ssenariylar

　　1.Yarimo'tkazgich fotolitografiya rezinlari

　　ArF fotolitografiya rezini: Matritsa smola monomeri sifatida, u α-butil-lakton metakrilat (GBLMA) va 3-gidroksi-1-adamantil metakrilat (HADA) bilan birikib, 0.5 mkm o'lchamli yuqori sezgirlikdagi fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin. Uning adamantin tuzilishi kislota eritish reaksiyasi orqali erish tezligini tartibga soladi va 193 nm lazer ta'siridan keyin rivojlanish kontrasti 3.8 ga yetadi, bu ilg'or texnologik jarayon talablariga javob beradi.

　　Manfiy rezin: Siklodekstrin bilan inklyuzion kompleks hosil qilgandan so'ng, u supramolekulyar o'tish tarmog'ini yaratishi mumkin va -30°C muzlash sharoitida ham rezin yumshoqligini saqlab qoladi, bu sovutilgan qon qoplari yorliqlarini avtomatik yopishtirish uchun ishlatiladi va an'anaviy akrilat rezinlarining past haroratda mo'rtligi muammosini hal qiladi.

　　2.Optik materiallar

　　Yuqori sinish ko'rsatkichli qoplam: Izosorbit diakrilat bilan birikib, sinish ko'rsatkichi 1.58 bo'lgan shaffof smola tayyorlash mumkin, bu aqlli telefon kameralari linzalari uchun ishlatiladi; uning yorug'lik o'tkazuvchanligi (88%) va tirnashga qarshi qattiqligi (4H) bozorda sotiladigan PMMA materiallaridan yuqori.

　　UV qotish linzalari: UV qotish tizimiga 5-10% MAM qo'shilganda, linza sinish ko'rsatkichining bir xilligi Δn<±0.0005 darajasiga oshiriladi, bu AR/VR qurilmalarining mikro-nano optik elementlari uchun mos keladi.

　　3.Biotibbiyot sohasi

　　Dori vositalari sintezi oraliq mahsuloti: Antibakterial, antiviral va antikanser xususiyatlariga ega bo'lgan yangi dorilarni sintez qilish uchun kalit xom ashyo sifatida ishlatiladi; uning noyob tuzilish xususiyatlari dori molekulalarini qurishda muhim rol o'ynaydi.

　　Biologik parchalanadigan materiallar: Polilaktid blok polimerlari bilan birikib, suvga teggandan so'ng 30 daqiqa ichida to'liq parchalanadigan ekologik tozal lenta tayyorlash mumkin, bu an'anaviy akrilat rezinlarining ochiq joylarda ishlatilishidagi cheklovlarini hal qiladi.

　　4.Aqlli javob beruvchi materiallar

　　Haroratga sezgir gidrogel: N-izopropilakrilamid bilan kopolimerlashib, pastki kritik erish harorati (LCST) 32°C bo'lgan aqlli gidrogel yaratish mumkin, bu dori sekin chiqarish tizimlari uchun ishlatiladi; uning shishish darajasi (500%) va mexanik mustahkamligi (264 kPa) oddiy PNIPAM gidrogellaridan yuqori.

　　Yorug'likka javob beruvchi polimerlar: Radikal polimerlash orqali MAM kiritilib, 365 nm yorug'lik ta'sirida hajmi qisqaradigan (qisqarish darajasi 12%) fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin, bu mikro-elektromexanik tizimlar (MEMS) uchun aniq shakllashda ishlatiladi.