Asosiy qo'llash sohalari va tipik ssenariylar

　　1.Yarimo'tkazgich fotolitografiya rezinlari

　　ArF fotolitografiya rezini: Matritsa smola monomeri sifatida, u α-butil-lakton metakrilat (GBLMA) va 3-gidroksi-1-adamantil metakrilat (HADA) bilan birikanda, 28 nm o'lchamli yuqori sezgirlikdagi fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin. Uning adamantin tuzilishi kislotali yemirilish reaksiyasi orqali erish tezligini tartibga soladi va 193 nm lazer ta'sir qilingandan keyin rivojlanish kontrasti 3,8 ga yetadi, bu ilg'or texnologik jarayon talablariga javob beradi.

　　Manfiy rezin: Siklodekstrin bilan inklyuzion kompleks hosil qilgandan so'ng, u supermolekulyar o'tma tarmoq yaratishi mumkin va -30°C muzlatish sharoitida ham rezin yumshoqligini saqlab qoladi, bu sovutilgan qon paketlari yorliqlarini avtomatik yopishtirish uchun ishlatiladi va an'anaviy akrilat rezinlarning past haroratda mo'rtligi muammosini hal qiladi.

　　2.Optik materiallar

　　Yuqori sinish ko'rsatkichli qoplama: Izosorbit diakrilat bilan birikanda, sinish ko'rsatkichi 1,58 bo'lgan shaffof smola tayyorlash mumkin, bu aqlli telefonlar kameralari linzalari uchun ishlatiladi; uning yorug'lik o'tkazuvchanligi (88%) va tirnashga qarshi qattiqligi (4H) bozorda sotiladigan PMMA materiallaridan yuqori.

　　Yorug'lik bilan qotuvchi linzalar: UV qotish tizimida 5-10% EAA qo'shilganda, linzaning sinish ko'rsatkichi bir xilligi Δn<±0,0005 darajasiga oshiriladi, bu AR/VR qurilmalari uchun mikro-nano optik elementlariga mos keladi.

　　3.Yuqori samarali yopishtirgichlar

　　Ekstremal sharoitlarga chidamli yopishtirgich: Poliuretan akrilat bilan kopolimerlashganda, -50°C dan 180°C gacha bo'lgan harorat tsikliga chidamli tuzilma yopishtirgichi tayyorlash mumkin, bu aviatsiya dvigatellari qismlarini yopishtirish uchun ishlatiladi; uning qirqish kuchi (22 MPa) va charchoq umri (101? tsikl) an'anaviy epoksid yopishtirgichlaridan ancha yuqori.

　　Biologik tarqaladigan bosim sezgir yopishtirgich: Polilaktik kislota blok polimeri bilan birikanda, suvga tushgandan so'ng 30 daqiqa ichida to'liq tarqaladigan ekologik to'shar tayyorlash mumkin, bu an'anaviy akrilat yopishtirgichlarning ochiq joylarda ishlashdagi cheklanishlarini hal qiladi.

　　4.Aqlli javob beruvchi materiallar

　　Haroratga sezgir gidrogel: N-izopropil akrilamid bilan kopolimerlashganda, pastki kritik erish harorati (LCST) 32°C bo'lgan aqlli gidrogel yaratish mumkin, bu dori sekinlashtirish tizimlari uchun ishlatiladi; uning shishish koeffitsienti (500%) va mexanik kuchi (264 kPa) odatdagi PNIPAM gidrogellaridan yuqori.

　　Yorug'likqa javob beruvchi polimer: Radikal polimerlash orqali EAA kiritilganda, 365 nm yorug'lik ta'sirida hajm qisqaradigan (qisqarish koeffitsienti 12%) fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin, bu mikro-elektromexanik tizimlar (MEMS) uchun aniq shakllantirishda ishlatiladi.