Asosiy qo'llash sohalari va tipik vaziyatlar

　　1.Yarimo'tkazgich fotolitografiya rezinlari

　　ArF fotolitografiya rezini: Matritsa smola monomeri sifatida, α-butil-lakton metakrilat (GBLMA) va 3-gidroksi-1-adamantil metakrilat (HADA) bilan birikanda, 120 nm o'lchamli yuqori sezgirlikdagi fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin. Uning adamantan tuzilishi kislota eritish reaksiyasi orqali erish tezligini tartibga soladi va 193 nm lazer ta'siridan keyin rivojlanish kontrasti 3,8 ga yetadi, bu esa ilg'or texnologik jarayonlar talablariga javob beradi.

　　Manfiy rezin: Siklodekstrin bilan inklyuzion kompleks hosil qilgandan so'ng, supramolekulyar o'tish tarmog'ini yaratish mumkin, bu esa -30°C muzlatuvchi muhitda ham rezinning yumshoqligini saqlab qoladi va sovutilgan qon qoplari yorliqlarini avtomatik yopishtirish uchun ishlatiladi, bu an'anaviy akrilat rezinlarning past haroratda mo'rtlashish muammosini hal qiladi.

　　2.Optik materiallar

　　Yuqori sinish ko'rsatkichli qoplamalar: Izosorbit diakrilat bilan birikanda, sinish ko'rsatkichi 1,58 bo'lgan shaffof smola tayyorlash mumkin, bu aqlli telefonlar kameralari linzalari uchun ishlatiladi; uning yorug'lik o'tkazuvchanligi (88%) va tirnashga qarshi qattiqligi (4H) bozordagi PMMA materiallaridan yuqori.

　　UV qotish linzalar: UV qotish tizimiga 5-10% MAA qo'shilganda, linzaning sinish ko'rsatkichi bir xilligi Δn<±0,0005 darajasiga oshiriladi, bu esa AR/VR qurilmalarining mikro-nano optik elementlari uchun mos keladi.

　　3.Yuqori samarali yopishtirgichlar

　　Ekstremal muhitga chidamli yopishtirgichlar: Poliuretan akrilat bilan kopolimerizatsiya qilinganda, -50°C dan 180°C gacha bo'lgan harorat tsikliga chidamli tuzilma yopishtirgichi tayyorlash mumkin, bu aviatsiya dvigatellari qismlarini yopishtirish uchun ishlatiladi; uning qirqish kuchi (22 MPa) va charchoq umri (1010 tsikl) an'anaviy epoksid yopishtirgichlardan ancha yuqori.

　　Biologik tarqaladigan bosim sezgir yopishtirgichlar: Polilaktik kislota blok polimerlari bilan birikanda, suvga tushgandan so'ng 30 daqiqa ichida to'liq tarqaladigan ekologik to'qma tayyorlash mumkin, bu esa an'anaviy akrilat yopishtirgichlarning ochiq joylarda ishlatilishdagi cheklovlarini hal qiladi.

　　4.Aqlli javob beruvchi materiallar

　　Harorat sezgir gidrogellar: N-izopropil akrilamid bilan kopolimerizatsiya qilinganda, eng past kritik erish harorati (LCST) 32°C bo'lgan aqlli gidrogel yaratish mumkin, bu dori sekin chiqarish tizimlari uchun ishlatiladi; uning shishish koeffitsienti (500%) va mexanik kuchi (264 kPa) odatdagi PNIPAM gidrogellaridan yuqori.

　　Yorug'likqa javob beruvchi polimerlar: Radikal polimerizatsiya orqali MAA kiritilganda, 365 nm yorug'lik ta'sirida hajmi qisqaradigan (qisqarish koeffitsienti 12%) fotolitografiya rezini tayyorlash mumkin, bu mikro-elektromexanik tizimlar (MEMS) uchun aniq shakllantirishda ishlatiladi.